真空镀膜是指在真空环境下,将某种金属或金属化合物以气相的形式沉积到材料表面(通常是非金属材料),属于物理气相沉积工艺。因为镀层常为金属薄膜,故也称真空金属化。广义的真空镀膜还包括在金属或非金属材料表面真空蒸镀聚合物等非金属功能性薄膜。主要销售真空镀膜所需要的金属靶材,以钛靶、高纯度钛靶为主,纯度可达5N~7N,可满足各类生产需要。
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